法新社报道说，“此案涉及对台湾产业生存至关重要的国家核心技术，严重威胁到该行业的国际竞争力”，台湾检方在一份声明中如是表示。

检方宣布，将对其中一名姓陈的前台积电工程师求刑14年。陈姓工程师在离职后，前往日本东京电子（Tokyo Electron）在台湾的子公司工作。另外两名在案发时仍为台积电员工的涉案人员，则分别面临9年和七年的有期徒刑。

这三人）均被依据《国家安全法》和《营业秘密法》起诉。

检方指出，前台积电陈姓工程师利用其与台积电前同事的关系，获取商业机密，以帮助日本企业东京电子“为更多使用台积电工艺的工厂提供设备”。

检方补充说：“在获取这些文件后，陈某进行了复制，以帮助东京电子提升其刻蚀机的性能，并获得为台积电2纳米刻蚀工艺提供生产设备的资质。”

另外廖姓被告等三名在此案调查中被捕的人员，因未涉及域外使用，仅涉犯营业秘密法知悉或持有营业秘密，未经授权或逾越授权范围而重制、使用或泄漏该营业秘密罪，此条文属告诉乃论之罪，台积电表明不提告，因此最终并未被起诉。

东京电子是台积电芯片制造设备的重要供应商，并曾因“技术合作与生产支持”获得台积电颁发的2024年杰出奖。

该公司于8月7日宣布，已解雇其台湾子公司的一名员工，该员工涉嫌参与了台积电商业机密的泄露。

台积电在8月初的一份声明中表示，已对参与“潜在制造机密泄露”的员工采取了“严格的纪律处分”。

据检方透露，台积电是在7月通过发现“内部人员对文件的不寻常访问”而察觉到这一情况的。

法新社目前尚未立即获得台积电对此事的回应。

（另按中央社报道披露三人是：陈力铭、吴秉骏、戈一平）