阿斯麦是全球领先的光刻技术供应商，其技术用于将微型电路激光打印到微芯片上。由于美国的制裁，该公司进入中国市场的机会已受到严重阻碍。如今，随着美国国会的议员们寻求进一步封锁包括这家欧洲企业在内的外国公司进入中国市场，海牙方面已向华盛顿正式提出反对意见。

据《南华早报》报导，荷兰外贸与发展合作大臣舍尔茨玛（Sjoerd Sjoerdsma）在周二公布的给议员的书面答复中表示，“鉴于《MATCH法案》如果以目前的形式通过，可能会对荷兰产生影响，荷兰已向美国国会议员和美国政府表达了反对意见，特别是关于域外效力方面的意见”。

《MATCH法案》全称《硬件技术控制多边协调法案》，该法案于上月由美国两党议员向国会提交，其将加强对阿斯麦和东京威力科创（TEL）等美国之外公司半导体制造设备销售的现有限制。

该法案旨在使这些外国公司受到与其美国竞争对手目前所面临的相同甚至更严格的限制。这包括禁止其工程师在中国特定工厂维护和修理工具，而美国公民已被禁止从事此类活动——这是出口管制辩论中最激烈的议题之一。

据介绍，《MATCH法案》旨在解决两个主要问题：一是“实体所在地的漏洞”，即敌手们可利用空壳公司和子公司来规避限制；二是“盟友间的不对称性”，即盟友们提供美国企业被禁止销售的关键工具和服务。

其中最显著的措施之一是限制阿斯麦的所有深紫外浸没式光刻 （immersion DUV）设备。《MATCH法案》指示美国商务部长确定所有“瓶颈”设备，例如深紫外浸没式光刻机，即敌手们无法自主生产的设备。

该法案禁止向任何“受关注国家”境内的任何目的地出售或维修最必要的芯片制造工具，但美国或盟国控制的芯片制造设施除外。此外，该法案还将长鑫存储、华虹、华为、中芯国际和长江存储运营的所有设施列为受管制设施，切断所有外国出口、维修和技术支持。

这将建立在现有对最先进的极紫外光刻（EUV）设备的管控措施之上——这些设备从未被允许出口到中国——同时还包括荷兰此前对深紫外（DUV）设备实施的一些限制措施。

舍尔茨玛指出，“内阁反对美国提案中固有的域外效力。每个国家都应负责制定本国的出口管制法律”。他并称，“如此广泛的措施也可能对包括荷兰公司在内的半导体企业的收入产生重大影响，并削弱它们的市场地位。此外，这些措施还可能破坏贸易和投资环境的可预测性”。

舍尔茨玛称，上月荷兰王室访问美国期间，首相、外交大臣以及他本人办公室都传达了这一信息。尽管目前尚无公开迹象表明美国总统特朗普支持《MATCH法案》，但海牙方面仍意识到华盛顿与北京之间贸易休战协议的脆弱性。

阿斯麦被视为欧洲科技行业的璀璨明珠，但在过去十年中，它一直深陷于美中科技战的漩涡之中。尽管如此，阿斯麦在1月份估计，今年其全年销售额的20%将来自中国。然而，这比2025年的33%有所下降。据中国海关数据计算，与上年同期相比，2026年第一季度中国从荷兰进口的光刻设备数量下降了24.3%。

不过，舍尔茨玛在书面答复中强调，“荷兰与合作伙伴在先进半导体技术不受控制的出口问题上，基本认同其安全方面的担忧”。

与此同时，荷兰政府去年介入，实际上接管了总部位于荷兰的中资芯片制造商安世半导体（Nexperia），引发了与北京的争端。

过去长期担任荷兰议会议员的舍尔茨玛自2021年3月以来一直因新疆人权问题受到中方制裁。当时，欧洲的10名人员和4个实体一起被中方实施制裁，他是10人之一。据信，舍尔茨玛仍计划近期访问中国。

今年3月，舍尔茨玛在喀麦隆雅温得举行的世贸组织会议上会见了中国商务部长王文涛，这次会晤被认为打破了双方关系的僵局。