朗道科技旗下的朗道燧岩（上海）科技有限公司，在上海国家会展中心举行的第二十六届中国国际工业博览会上，首次公开展示了一台极紫外（EUV）光源系统样机。EUV光源是7纳米及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一。现场工作人员对媒体说，这套光源系统的国产化率达到90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可以用于芯片曝光测试。
受影响的是中国的先进芯片生产：美国阻止荷兰阿斯麦（ASML）向中国出口EUV光刻设备，中国自行开发深紫外（DUV）光刻设备；生产最先进芯片所需的EUV，目前仍由阿斯麦垄断。华为常务董事余承东10月初在和国际媒体交流时也说，EUV光刻机中国目前正在研发，但现阶段境内仍然依靠DUV光刻机。
公司官网公布的参数显示，已处于产品化阶段的低功率光源系统FlintNano LPP-OXXO，驱动激光功率1000W，EUV能量大于15W，转换效率大于2%，持续工作时间超过100小时；高功率的FlintMicro-LPP系列只完成了原理论证。现场工作人员对媒体说，这套光源系统距离量产还需要3至5年，当前的核心挑战是提升输出功率和长期运行的稳定性；商用EUV光刻系统要求光源功率达到数百瓦级别。
这台样机没有放在集成电路相关的热门展馆，而是放在创新科技馆内上海市的专属展区；有记者询问细节时，现场人员一律以不接受访问拒绝。旁边就是各大学院校的展馆，一有年轻学生停下，工作人员就递上招聘全职和实习人员的传单，说公司是新公司，非常需要人才。
朗道燧岩成立于2024年，创始人王豪博士的团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础；公司2025年10月获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，2026年7月完成A轮融资，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等。
茉莉花观察
这一节是茉莉花的看法，依据是上文的事实。
我们的分析这台样机说明，中国已有公司做出能用于曝光测试的EUV光源，但离量产用的光源还差得远。样机公布的EUV能量大于15W，阿斯麦目前功率最高的工业用光源是600瓦；阿斯麦还已验证了1000瓦光源的概念。
| 光源 | 阶段 | EUV输出功率 | 数字来自 |
|---|---|---|---|
| 朗道燧岩低功率系统 | 产品化阶段 | 大于15W | 公司官网参数 |
| 朗道燧岩FlintMicro-LPP（高功率） | 完成原理论证 | 所查报道没有写数值 | 公司官网 |
| 阿斯麦目前功率最高的工业用光源 | 接在高数值孔径EUV光刻机上 | 600瓦 | 阿斯麦 |
| 阿斯麦新光源 | 概念验证 | 1000瓦 | 阿斯麦 |
数据：朗道燧岩官网参数（IT之家、香港01报道）；阿斯麦的数字见Bits&Chips报道
不同看法这台样机国产化率90%，技术路线和国际领先厂商一致，已经能用于芯片曝光测试，低功率系统也已进入产品化阶段；从这些事实看，国产EUV光源已经走出了实验室。我们同意，做出能工作的样机有实在的意义；但光源只是EUV光刻机的一个部件，现场人员自己也说，离量产还要3至5年。
前瞻朗道燧岩能不能把光源功率做上去。我们判断，到2027年12月31日，朗道燧岩不会公布EUV能量达到100瓦以上的光源系统。现场人员说当前的核心挑战就是提升输出功率，高功率系列目前只完成了原理论证，已产品化的低功率系统公布的EUV能量只是大于15W。这家成立两年的公司还在展台上招人，要追的是功率已达600瓦的阿斯麦。
综合中央通讯社、IT之家、香港01、荷兰半导体媒体Bits&Chips报道
